Bahan apa yang terbuat dari semikonduktor?Target sputtering molibdenum untuk semikonduktor
Saat ini, target sputtering digunakan dalam berbagai aplikasi mulai dari industri semikonduktor hingga deposisi film tipis dari berbagai bahan dalam pemrosesan sirkuit terpadu.Sputtering adalah teknik mapan untuk menyimpan film tipis dari berbagai bahan ke substrat dengan berbagai bentuk dan ukuran.Untuk mendapatkan sifat yang diinginkan dalam film yang diendapkan sputter, bahan fabrikasi dan proses yang digunakan untuk membuat target sputter sangat penting.Di bawah ini kita melihat target sputtering molibdenum untuk semikonduktor.
Selain target logam murni seperti tungsten, molibdenum, niobium, titanium, dan silikon, ada juga target paduan seperti tungsten, molibdenum, titanium, silikon, dan tantalum, serta senyawa seperti oksida atau nitrida.Proses penentuan material sama pentingnya dengan parameter operasi deposisi yang disempurnakan oleh para insinyur dan ilmuwan selama proses pelapisan.
Dibandingkan dengan metode deposisi lainnya, film tergagap memiliki adhesi yang lebih baik pada substrat, dan bahan dengan titik leleh yang sangat tinggi seperti molibdenum dan tungsten juga mudah tergagap.Juga, sputtering dapat dilakukan dari atas ke bawah, sedangkan penguapan hanya dapat dilakukan dari bawah ke atas.
Target sputtering biasanya bulat atau persegi panjang, tetapi bentuk lain juga tersedia, termasuk desain persegi dan segitiga.Substrat adalah objek yang akan dilapisi, yang dapat mencakup wafer semikonduktor, sel surya, elemen optik, atau banyak kemungkinan lainnya.Ketebalan lapisan biasanya dalam kisaran angstrom hingga mikron.Membran dapat berupa bahan tunggal atau beberapa bahan dalam struktur multilayer.
Sebagai logam tahan api dengan berbagai kegunaan, molibdenum memiliki sifat mekanik yang sangat baik, ekspansi rendah, konduktivitas termal yang tinggi dan konduktivitas listrik yang sangat tinggi pada suhu tinggi.Sebagai target sputtering, ada berbagai kombinasi, seperti target molibdenum murni, target titanium molibdenum, target molibdenum tantalum, target paduan molibdenum (seperti pelat TZM).
Target sputtering molibdenum memiliki karakteristik kemurnian tinggi, kepadatan tinggi, butiran halus dan seragam, sehingga memperoleh efisiensi sputtering yang sangat tinggi, ketebalan film yang seragam, dan permukaan etsa yang halus selama proses sputtering.